1
|
SENTECH SI 500 D PTSA ICP PLASMA Deposition
Установка осаждения диэлектриков в индуктивно связанной плазме SI 500 D PTSA ICP Plasma Deposition.
Система состоит из:
|
1.1
|
Planar Inductively Coupled Plasma Source PTSA200
Источник индуктивно-связанной плазмы PTSA 200
(планарная спиральная антенна)
Диапазон давления: 0,2 … 10 Па
Мощность : 100…1200 Вт
Плотность плазмы: до 5*1011 см-3
Неоднородность < 5% (6”)
Электронная температура: < 2 eV
Минимальная энергия ионов: 10 eV
Водяное охлаждение
Эффективный диаметр источника: 296 мм.
Al2O3 диэлектрическое окошко для передачи мощности в плазму.
Интегрированная автоматическая согласующая система.
Окошко для in-situ мониторинга – интреферометр. (опция)
|
1.2
|
RF power supply (ICP source)
RF источник (ICP источник)
13,56 МГц, 1200 Вт
Предварительная установка и управление величиной передаваемой мощности
Импульсный источник питания
Автоматическая согласующая цепь
Воздушное охлаждение
|
1.3
|
Substrate electrode
Электрод подложки
Алюминиевый электрод с пневматически управляемым подъёмным устройством и зажимным механизмом. Плита подложки окружена темной защитой для защиты от паразитной плазмы.
Пластина/держатель диаметром 8” / 200 мм
(по запросу 6”/150 мм.)
Зажим 5 мм по краю образца
Диаметр электрода 240 мм.
Гелиевое охлаждение обратной стороны.
Давление гелия на задней стороне подложки 500-1200 Па.
Динамический контроль температуры то КТ до 350 оС
|
1.4
|
Vacuum system with anticorrosive pump system
Вакуумная система с антикоррозивной системой
Турбомолекулярный насос
Leybold Mag W 1300 C, 1200 l/sec на магнитном подвесе антикоррозионное исполнение, DN200.
Откачивающий насос TRIVAC D 40 BCS-PFPE (Leybold), 40 м3/час, устойчив к коррозионным газам, заливается маслом Fomblin, с химическим фильтром CFS, влагоуловителем ARS с системой возвращения масла и системой продувки инертным газом
Дроссельный клапан DN 200, управляемый шаговым двигателем
Датчик давления Baratron, 10-1 mbar,
разрешение 10-4 тор
Вакуумметр с самописцем
Номинальное давление < 10-6 mbar
|
1.5
|
Gas supply system
Газовая система
Газовый короб состоит из MFC (датчик массового расхода потока газа) и отсечных клапанов. Система располагается в реакторном модуле рядом с камерой и может продуваться азотом для очистки.
Газовая панель включает 6 линий, каждая из которых оборудована фильтром и управляется датчиком массового расхода (MFC). Две из 6-ти линий оборудованы байпасными клапанами для коррозионных газов. Контрольная цепь MFC установлена согласно выполняемым процессам. Добавочные газовые линии (опции).
Газы:
SiH4/He, NH3, N2O, O2, CF4, Ar
2 газовые линии с байпасом: SiH4/He, NH3
|
1.6
|
Aluminium reactor chamber
Алюминиевая камера реактора
с алюминиевыми затворами
Внутренняя цилиндрическая рабочая камера выполнена из монолитной алюминиевой болванки. Отсутствие сварочных швов способствует снижению утечек из камеры.
Материал AlMgSi 0.5
3хDN 40 KF смотровое окошко
DN 16 KF фланец для датчика давления Baratron
ВТ 200 – вакуумный фланец
|
1.7
|
Vacuum loadlock,
Вакуумный загрузочный шлюз
С магнито-пневматическим закрузчиком 8” пластин и держателей
Загрузочный шлюз соединён с камерой реактора прямоугольным вакуумным затвором. Он оборудован магнито-пневматическим транспортным механизмом и прозрачной крышкой. Загрузка и выгрузка выполняется автоматически. Загрузочный шлюз откачивается через клапан мягкого пуска (soft-start valve) и очищается азотом соответственно.
Материал камеры AlMg 0.5
Прямоугольный вакуумный затвор, 22232 мм.
Уплотнительное кольцо Viton
Вакуумный безмасляный центробежный насос
ACP 15
(12 м3/ч), манометр Пирани
Номинальное давление < 10 Па
|
1.8
|
Hardware control
Система контроля
Контролер удаленного доступа (RFC) используется для управления всеми компонентами в реальном времени всех компонентов системы через серийную шину (Inter bus). Основная защитная блокировка реализуется с помощью RFC; программное обеспечение (ПО) отключает установку в случае возникновения ошибок, допущенных оператором и управляется с помощью ПК. Канал передачи информации на панели управления и в реакторном модуле переводит команды и сигналы вход/выход к компонентам системы соответственно. Архитектура позволяет быстро добавлять и удалять компоненты и производить диагностику ошибок. Внутренняя шина одна из самых быстрых и самых неуязвимых серийная шина с возможностью диагностики и протоколирования.
ПК с операционной системой Windows 7 используется для управления процессами, блокировки против ошибок оператора, для визуализации процесса и других инструментов системы. Она обменивается с RFC по средствам Ethernet и с добавочными клиентами по средствам LAN,WAN или Internet.
|
1.9
|
Control rack
Стойка управления
Стойка управления (19”), состоящая из:
ПК
Монитор и клавиатура
Контролер удаленного доступа RFC
ВЧ генератор
Контроллер дроссельного вентиля
Преобразователь давления
Источники электропитания
Выключатель электропитания / аварийный выключатель
|
1.10
|
PC
Персональный компьютер
HP Compaq 8200 Elite SSF eng./ger.; Intel Core I3-2100;
1x2GB RAM PC3-10600/1333; 250GB HD SATA 3GB/s NCQ
SmartIV;
Super Multi LightScribe DVD Burner;
Intel Q65 Express Chipset with integrated Intel HD-Graphic
DPP, VGA, DVI;
2x GBit LAN; 89+ power supply; USB2 4xfront, 5xrear; sound
on board Realtek/Intel,
Windows 7-32 prof.; CCC confirmation; 36 month global
warranty
Monitor:
HP LA2205WG 22 inch TFT ana/dig TCO022”/55,9cm 16:10
Wide 1680x1050pix;
Brightness 250cd/m², contrast1000:1 /5ms / 160° horiz. /160°
vert.; 3xUSB2;
36 month global
|
1.11
|
SENTECH’s plasma process system operating software
Программного обеспечение для контроля системы и процессов:
Система включает:
Системный монитор (управление системой в целом)
Управление данными (ASCII file)
Создание и редактирование рецептов
Управление параметрами процессов
Ручное и автоматическое управление давлением
Блокировки
Управление процессом в пошаговом режиме
Продвинутая система управления доступом, включая администирирование и защиту паролем
|
2
|
Spare part kit
Комплект запасных частей для работы на 2 года
|
3
|
CARRIER FOR 4” WAFERS
Держатель для 4-дюймовых пластин с гелиевым охлаждением
|
4
|
CARRIER FOR 3” WAFERS
Держатель для 3-дюймовых пластин с гелиевым охлаждением
|
5
|
CARRIER FOR 2” WAFERS
Держатель для 2-дюймовых пластин с гелиевым охлаждением
|
6
|
Installation and training
Пусконаладочные работы и обучение на территории заказчика
3 дня инсталляция и обучение
Включая проживание и транспорт
|
7
|
Сервис удаленного доступа к установке
|
8
|
Упаковка
|
9
|
Laser End Point Monitor SLI 670 производства и разработки фирмы SENTECH.
Лазерный интерферометр для определения окончания процесса травления или осаждения
-Измерение времени в зависимости от интенсивности отражения
-Видеокамера и моторизованный XY стол для измерения позиции пятна.
• endpoint detection for etching and deposition processes
• measurement of time dependent reflected intensity
• video camera and motorized xy-stage for measurement spot positioning
|
10
|
DRY PUMP Alcatel ADP 122H (взамен LH D 40 Leybold)
Замена стандартного форвакуумного насоса с антикоррозионным исполнением LH D 40 Leybold на
насоса безмасляный форвакуумный насос ADP 122
|
11
|
SI500 UK циркуляционный охладитель (термостат) --30С…+80С, FP 40 HD
|
12
|
ВЧ генератор для смещения, 13,56 Мгц, 300 Вт.
RF Generator for biasing
13.56 MHz, 300 W
Forward power controlled
Switched power supply
Automatic power matching
Air cooled
|
13
|
Нагрев стенок реактора (до 50 оС в целях
безопасности) Reactor body heating
By heating plates attached to the outer walls of the reactor
chamber,
Maximal temperature 50°C for safety reasons
|
14
|
Система подачи жидкого прекурсора (TEOS)
|
