Скачать 402.32 Kb.
|
1.4. Адмиттансная диагностика гетеропереходов и квантовых ямТипичная вольт-фарадная (C-V) характеристика полупроводниковой диодной структуры, содержащей несколько квантовых ям, приведена на рисунке 1. Каждое горизонтальное плато на ней соответствует наличию, в общем случае, гетероперехода, квантовой ямы (КЯ) или квантовой точки (КТ). Причина появления плато на C-V зависимости объясняется тем, что область объемного заряда, расширяясь с увеличением приложенного смещения, пересекает своей границей участки обогащения основными носителями заряда, которые возникают вблизи гетероперехода, квантовой ямы или квантовой точки [4]. Заряд, аккумулированный в квантовой яме, зависит от таких параметров, как разрыв зон на гетерогранице ΔE, эффективной массы но-сителей и ширины квантовой ямы, которые, в свою очередь, определяют положение энергетических уровней и волновых функции локализованных состояний в квантовой яме. Поэтому анализ емкости, связанной с квантовой ямой, позволит определить все эти параметры. Вводится понятие емкостной спектроскопии квантоворазмерных состояний, когда, увеличивая напряжение обратного смещения на барьере Шоттки, заполненные электронами энергетические уровни в слое КЯ последовательно опустошаются при прохождении через уровень Ферми Обычно для соотношения между емкостью и напряжением в диоде Шоттки или в резком несимметричном p-n-переходе, содержащим гетеропереходы и квантоворазмерные слои, применяется формула для барьерной емкости . (11) Но, в отличие от объемного полупроводника, в данном случае под n скорее понимается концентрация подвижных носителей заряда, а не легирующей примеси. Здесь: ε – диэлектрическая проницаемость полупроводника, φk – величина встроенного потенциала, A – площадь образца, q – элементарный заряд [6]. Дифференцирование C-V-зависимости в соответствии с формулой (12) позволяет получить профиль концентрации основных носителей заряда по глубине гетероструктуры. В формуле (11) d – ширина области объемного заряда, которая обычно определяется по формуле плоского конденсатора . (13) Современная практика вольт-емкостных измерений наноразмерных структур однозначно доказывает, что емкостная спектроскопия оказывается чрезвычайно эффективной в профилировании наногетероструктур, демонстрируя селективность на уровне 1-2 нм, недостижимую для многих современных диагностических методов, включая электронно-зондовые. Если к тому же учесть умеренную стоимость емкостных мостов, то следует признать спектроскопию адмиттанса или вольт-фарадных характеристик доступным и очень эффективным методом нанодиагностики. С овременное развитие информационных технологий и измерительной техники позволяют реализовать исследование ВФХ с высокой точность и практически полностью автоматизировать процесс их исследования. Структурная схема типичной установки для исследования ВФХ показана на рис. 4. Исследуемый диод помещается в термостат, который позволяет поддерживать температуру в широких пределах. Общее управление осуществляется персональным компьютером (ПК) с установленным специализированным программным обеспечением. Программное обеспечение через стандартный интерфейс (например, RS-232, GPIB, USB) обеспечивает обмен информацией между регулятором температуры и измерителем иммитанса. Последний, как правило, имеет встроенный управляемый генератор синусоидального измерительного сигнала, управляемый источник напряжения смещения и измеритель RLC. Управление осуществляется устройством управления, которое изменяет частоту сигнала, напряжение смещения и производит измерение иммитанса диода по командам, переданным через интерфейс. Информация отображается на экране ПК и записывается в файл данных для дальнейшей обработки. В качестве измерителя иммитанса могут использоваться приборы таких известных зарубежных фирм как Agilent E4980A, или отечественные типа МНИПИ Е7-20 и т.п. 2. Выполнения лабораторной работы Лабораторная работа проводится в виде виртуального эксперимента по исследованию ВФХ полупроводниковых диодов с использованием программы, установленной на персональном компьютере (ПК), в виде лабораторной автоматизированной установки, которая после выбора образца диода из предложенного списка строит его ВФХ и отображает ее на экране монитора. У становка состоит из комбинаций приборов, объединенных общим управлением. Блок формирования напряжения обеспечивает изменение напряжения на выбранном из списка образце диодной структуры с начального, до максимального значения с шагом, которые устанавливаются оператором. Изменение этого напряжения происходит через временной интервал, также выставляемый оператором. Напряжение измеряется цифровым вольтметром с автоматической установкой пределов измерения. После изменения напряжения на структуре с некоторым временем задержки производится измерение емкости диода прибором «Фарадметр». Измеренные значения отображается точкой на графическом мониторе в координатах емкость - напряжение. Полученную ВФХ можно записать в файл данных, путь к которому заранее определяется оператором. Этот файл данных можно обработать другими математическими пакетами прикладных программ. При подготовке к работе необходимо изучить методические указания к лабораторной работе и затем получить у преподавателя задание. Для начала работы необходимо запустить файл «CV_лабор» на Рабочем столе ПК. После чего на экране ПК появится окно, изображенное на рис. Х,а. Оно отображает название выполняемой лабораторной работы и некоторые интуитивно понятные элементы управления. Лабораторная работа состоит из двух частей. В первой части работы исследуется вольт-фарадная характеристика (ВФХ) выбранного образца диодной структыры (см. рис. Х,б), а во второй части производится обр аботка полученной ВФХ программой MathCAD для расчета высоты потенциального барьера и концентрации доноров и акцепторов в полупроводниковой структуре. Конкретный образец структуры выбирается в окне выбора образца (рис. Х,б) щелчком левой кнопки мыши по соответствующей строке появившегося меню. 2.1. Исследование ВФХ полупроводниковой структуры После щелчка по кнопке «К исследованию» открывается рабочее окно автоматизированной установки, показанное на рис. Х. В этом окне отображаются измерительные приборы и элементы управления работой установки. Необходимо включить приборы щелчком по тумблерам «Сеть». Если включены не все приборы, то отображается мигающая надпись «Включите приборы». Исследование ВФХ выбранного образца полупроводниковой структуры проводить в следующей последователности:
2.2. Обработка ВФХ Для обработки, полученной в первой части лабораторной работы ВФХ необходимо воспользоваться пакетом прикладных программ “MathCAD”. Данные, сохраненные в первой части лабораторной работы в виде текстового файла требуют преобразования. Это связано с тем, что данные в нем представлены в формате с десятичной запятой, а программа MathCAD воспринимает данные в формате с десятичной точкой. Для этого в программе «Блокнот» следует открыть полученный файл и, используя меню «Правка» заменить запятую на точку во всем файле. Пример обработки данных в программы MathCAD представлен ниже и позволяет произвести обработку полученных данных. Считывание данных из файла Назначение количества точек и выделение массива U и C Заряд электрона Диэлектрическая проницаемость вакуума Диэлектрическая проницаемость кремния Масса свободного электрона Температура образца Площадь диода (в скобках радиус диода) Эффективная масса плотности состояний электрона в кремнии Постоянная Планка Постоянная Больцмана Тепловой потенциал Индекс массива начинаем с нуля Емкость в Фарадах Готовим построение линейной функции для удельной емкости Определяем параметры линейной функции по точкам исходных данных Формируем математическое выражение для исходных данных методом сглаживания Построение графика С=F(U) Построение графика 1/(С/S)2=F(U) совместно с линеаризованной прямой Напряжение Ui, соответствующее пересечению прямой с осью напряжений Средняя концентрация свободных электронов Высота барьера Сглаживание данных и получение профиля распределения концентрации мелких доноров по глубине базы диода Концентрация N в см-3, глубина d в мкм График зависимости N(d) Определяем длину Дебая 3. Последовательность выполнения работы
4. Содержание отчета 4.1. Отчет выполняется каждым студентом индивидуально. 4.2. Отчет должен содержать:
5. Вопросы для подготовки к защите лабораторной работы
Библиографический список
|
Методические указания к лабораторным работам по дисциплине «Управление проектами» для студентов и слушателей факультета «Инженерный... | Методические указания к лабораторным работам по математическому моделированию и теории принятия решений | ||
«Информационные технологии (ИТ): Методические указания к лабораторным работам по курсу ит для направления 552800 Информатика и вычислительная... | Методические рекомендации по разработке методических указаний к практическим занятиям, лабораторным работам по дисциплине/ Составители... | ||
Методические указания к лабораторным занятиям по дисциплине «Товарная номенклатура вэд» для специальности 036401- «Таможенное дело»... | Методические указания по проведению лабораторных работ предназначены для студентов гоапоу «Липецкий металлургический колледж» технических... | ||
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования | Изучить команды монитора Mysql, освоить операции создания таблиц, выборки, вставки, изменения и удаления данных | ||
Цель работы: приобретение практических навыков работы в интегрированной среде C, изучение структуры программы на языке С | Методические указания предназначены для студентов экономических и других специальностей, изучающих дисциплины «Информационные системы»,... |
Поиск Главная страница   Заполнение бланков   Бланки   Договоры   Документы    |