Конкурсная документация открытого конкурса на право заключения государственного контракта на выполнение ниокр «разработка и изготовление технологического оборудования
Скачать 1.72 Mb.
|
НИОКР «Разработка и изготовление технологического оборудования для выпуска длинномерных металлических лент-подложек с текстурированным оксидным покрытием для производства высокотемпературных сверхпроводников 2-го поколения (ВТСП-2)» 1. Цель и задачи проведения работы 1.1. Целью работы является: Разработка и изготовление отдельных единиц оборудования технологического комплекса для выпуска высокотемпературных сверхпроводников 2-го поколения (ВТСП-2) с длиной единичного куска не менее 1000 м. 1.2. Основные задачи: Разработка и изготовление оборудования для подготовки металлической ленты-подложки длиной не менее 1000 м к нанесению текстурированных оксидных покрытий. Разработка и изготовление установки напыления и ионно-лучевого ориентирования текстурированного оксидного покрытия на металлическую ленту-подложку длиной не менее 1000 м. 2. Основное содержание работы Разработка технического проекта и конструкторской документации на установку химико-механической полировки металлической ленты-подложки длиной не менее 1000 м. Разработка технического проекта и конструкторской документации на установку ультразвуковой мойки металлической ленты-подложки длиной не менее 1000 м. Разработка технического проекта и конструкторской документации на ионный источник с малым углом расходимости. Разработка технического проекта и конструкторской документации на установку напыления и ионно-лучевого ориентирования оксидных буферных слоев на металлическую ленту-подложку длиной не менее 1000 м. Изготовление узлов, установки химико-механической полировки металлической ленты-подложки длиной не менее 1000 м. Сборка и тестирование установки химико-механической полировки металлической ленты-подложки длиной не менее 1000 м. Изготовление узлов, установки ультразвуковой мойки металлической ленты подложки длиной не менее 1000 м. Сборка и тестирование установки ультразвуковой мойки металлической ленты подложки длиной не менее 1000 м. Изготовление ионного источника с малым углом расходимости. Изготовление вакуумной камеры с вакуумной и пневмо-гидравлической системами, и системы транспорта ленты установки напыления и ионно-лучевого ориентирования буферных слоев на металлическую ленту-подложку длиной не менее 1000 м. Сборка и отладка установки напыления и ионно-лучевого ориентирования буферных слоев на металлическую ленту-подложку длиной не менее 1000 м. Проведение патентных исследований. Подготовка и представление сведений о РНТД. 3. Основные требования к выполнению работы Установки полировки, ультразвуковой мойки и ионно-лучевого ориентирования должны обеспечить обработку металлической ленты-подложки шириной 4, 6 и 12 мм, толщиной 50-100 мкм, длиной не менее 1000 м при ширине ленты-подложки 4 мм. 3.1. Основные требования на установку химико-механической полировки металлической ленты-подложки: 3.1.1. Установка должна обеспечить химико-механическую полировку металлической ленты-подложки толщиной 0.05 – 0,1 мм длиной не менее 1000 м с шероховатостью Ra не более 0,003 мкм. 3.1.2. Установка должна быть оснащена системой смотки полированной ленты-подложки в транспортную кассету с прокладочной лентой. 3.1.3. Система смотки должна быть оснащена устройством маркировки и разметки ленты. 3.2. Основные требования на установку ультразвуковой мойки металлической ленты-подложки: 3.2.1. Установка должна обеспечить мойку полированной металлической ленты-подложки длиной не менее 1000 м с применением поверхностно-активных веществ с активацией ультразвуком. 3.2.2. Установка должна обеспечить финишную отмывку ленты в деионизованной воде. 3.2.3. Установка должна обеспечить удаление остаточных капель воды с полированной металлической ленты-подложки потоком обеспыленного воздуха. 3.2.4. Установка должна обеспечить смотку отмытой полированной ленты в транспортную кассету с прокладочной лентой. 3.2.5. Установка должна быть оснащена системой непрерывного контроля качества полировки и отмывки функциональной поверхности ленты. 3.3. Основные требования на ионный источник с малым углом расходимости: 3.3.1. Ионный источник должен генерировать ленточный пучок ионов инертных газов (He, Ne, Ar, Xe) и их смесей. 3.3.2. Энергия однозарядных ионов – регулируемая в диапазоне 0,5 - 10 кэВ. 3.3.3. Ток пучка ионов должен быть не менее 200 мА. 3.3.4. Плотность тока пучка ионов на подложке не менее 5 мA/см2. 3.3.5. Угловая расходимость пучка ионов не более 2о при ширине ленточного пучка на подложке не более 10 мм. 3.3.6. Время непрерывной работы источника должно быть не менее 100 часов. 3.4. Основные требования на установку напыления и ионно-лучевого ориентирования оксидных буферных слоев на длинномерную металлическую ленту-подложку толщиной 0,05 – 0,1 мм длиной не менее 1000 м, : 3.4.1. Установка должна обеспечить обработку металлической ленты-подложки шириной 4 мм, длиной не менее 1000 м, а также шириной 6 и 12 мм с возможным пропорциональным уменьшением длины ленты-подложки. 3.4.2. Установка должна обеспечить преднапылительную очистку поверхности металлической ленты-подложки методом ионного травления. 3.4.3. Конструкция вакуумной камеры и системы транспорта ленты должна обеспечить напыление текстурированного слоя окиси циркония, стабилизированной иттрием (YSZ), или слоя окиси магния (MgO) с остротой текстуры не более 10о. 3.4.4. Производительность установки должна быть не менее 10 метров в час. 3.4.5. Установка должна содержать прибор для контроля остроты текстуры оксидного слоя в процессе напыления. 3.4.6. Вакуумная камера должна быть изготовлена из нержавеющей стали. Камерная дверь должна обеспечивать доступ ко всем внутрикамерным устройствам. 3.4.7. Вакуумная система должна обеспечить необходимое предельное давление в камере не выше 1*10-4 Па. Вакуумная система должна быть безмасляной. Наличие паров органических соединений не допускается. 3.4.8. Время непрерывной работы установки должно быть не менее 100 часов. 3.4.9. Автоматизированная на базе ЭВМ система управления, блокировок и сигнализации должна обеспечивать безаварийную эксплуатацию установки, а так же задание, непрерывный контроль и поддержание технологических режимов в течении производственного процесса. 3.4.10. Система контроля должна обеспечивать запись значений контролируемых параметров технологического процесса в течение производственного процесса. 3.5. Требования к технической документации Технические проекты должны соответствовать требованиям ГОСТ 2.120. Конструкторская документация должна соответствовать требованиям действующих стандартов ЕСКД. Эксплуатационная документация должна соответствовать требованиям ГОСТ 2.601. Порядок проверки, согласования и утверждения конструкторской и эксплуатационной документации должен соответствовать требованиям ГОСТ P 15.201 и ГОСТ 15.005. 4. Перечень этапов, их содержание и сроки выполнения
|
Похожие:
 | Фцп исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России | | Фгуп «радон» в обеспечение мероприятия «Разработка и практическое использование при выводе из эксплуатации ядерно и радиационно опасных... |
| Фцп «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2007-2013 годы» | | Форма предложение по расчету цены контракта за единицу товара, работы, услуги 37 |
| «Научно обоснованные предложения по параметрам развития транспортного комплекса на среднесрочную перспективу» |  | Подрядчики подавать конкурсные заявки на право заключения договора на выполнение работ по техническому обслуживанию и ремонту основного... |
| Начальник Государственного учреждения «Томский центр по гидрометеорологии и мониторингу окружающей среды» | | Северного (Арктического) федерального университета имени М. В. Ломоносова: разработка плана развития объектов инфраструктуры и организационно-распорядительной... |
| Ниокр по теме: Разработка программно-аппаратного комплекса для электронной литографии с суб-100нм разрешением на основе современных... | |